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        2. 工業EDI超純水設備

          新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的工業EDI超純水設備來清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對EDI超純水設備的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

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          工業EDI超純水設備詳解

          超純水,電阻率達到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。

          為滿足用戶生產工藝用水需求,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。

          在工藝設計上,源水(市政自來水),經多介質過濾器,活性碳過濾器,鈉型陽離子軟化器、精密過濾器等預處理系統后進入二級RO反滲透系統,再進入EDI電除鹽系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,由PLC控制系統完成包括阻垢劑計量泵、高壓泵、電動慢開門的順序啟動和停止;停運時反滲透裝置的自動低壓沖洗;運行過程中低壓壓力開關與系統的連鎖運行;各轉動設備的運行監測和報警等。

          工業EDI超純水設備

          超純水處理:既將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。超純水處理,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。

          工業EDI超純水設備的原理

          1. 水進入純化系統,主要部分流入樹脂 / 膜內部,而另一部分沿模板外側流動,以洗去透出膜外的離子。

          2. 樹脂截留水中的溶存離子。

          3. 被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。

          4. 陽/陽離子透過陽離子膜,排出樹脂 / 膜之外。

          5. 濃縮了的離子從廢水流路中排出。

          6. 去離子水從樹脂 / 膜內流出。

          工業EDI超純水設備特點

          1.整體化程度高 , 易于擴展 , 增加膜數量即可增加處理量。

          2.自動化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自動保護功能。

          3.膜組件為復合膜卷制而成 , 表現出更高的溶質分離率和透過速率。

          4.能耗低 , 水利用率高 , 運行成本低。

          5.結構合理 , 占地面積少。

          6.先進的膜保護系統 , 在設備關機 , 淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈 , 延長膜壽命。

          7.系統無易損部件 , 無須大量維修 , 運行長期有效。

          8.設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

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